Der Halbleiterhersteller Infineon errichtet für 1,1 Milliarden Euro eine neue Fertigung an seinem österreichischen Standort in Villach. Es soll laut Infineon die weltweit erste Hochvolumenfertigung für Leistungshalbleiter der neuesten Generation auf großen 300 Millimeter-Wafern aus Galliumnitrid werden. Diese werden unter anderem in KI-Rechenzentren, Energieinfrastruktur, Elektromobilität, Robotik, aber auch Verbraucherelektronik eingesetzt.
Der Produktionsstart ist für Ende kommenden Jahres vorgesehen, die Investitionen werden aber über einen Zeitraum bis 2034 erfolgen. Infineon nutzt an seinem Standort bereits bestehende Reinraum-Kapazitäten.
Die Welt ist energiehungrig, erklärt Infineon-Chef Hanebeck die Nachfrage nach Galliumnitrid. Das Material habe gegenüber herkömmlichen Silizium-Halbleitern den Vorteil, dass es sehr viel schneller schalten könne - und damit sehr viel energieeffizienter sei. Dass man dies nun auf größeren 300 Millimeter-Wafern herstellen könne, sorge für massive Effizienzgewinne in der Produktion. Im Vergleich zu einem 200 Millimeter-Wafer könne man die 2,3-fache Menge an Chips erzeugen.
© dpa-infocom, dpa:261027-930-898802/1
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